High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού από Yang Yang

Το έργο High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού του σχεδιαστή Yang Yang είναι ένας εξαιρετικά εκτιμημένος νικητής του πολύ κορυφαίου 2021 Χάλκινο Βραβείο A' Design Award στην κατηγορία διαγωνισμού Σχεδιασμός Μηχανημάτων Κατασκευής και Επεξεργασίας.

ΧάλκινοΜηχανήματα· 2021

High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού

από Yang Yang

Πελάτης: Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University

Νικητής του Χάλκινο Βραβείο A' Design Award στην κατηγορία Μηχανήματα

73,086

Επαληθευμένος Νικητής Βραβείου

Επαλήθευση Κατάστασης Βραβείου για #115788

Προβολή στο A' Design Award Δελτίο Τύπου Σήμα Βραβείου

Χρώματα

Ο Σχεδιασμός

Σχετικά με το High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού

Το Σύστημα Ψεκασμού Υψηλού Κενού είναι ένα μηχάνημα που εναποθέτει λεπτά υμένια μετάλλων και διηλεκτρικών υλικών σε υποστρώματα έως 300 χιλιοστών. Το σύστημα χρησιμοποιεί πηγές ψεκασμού μαγνητρονίου τροφοδοτούμενες με ραδιοσυχνότητα, συνεχές ρεύμα ή παλμικό συνεχές ρεύμα, λειτουργώντας είτε σε λειτουργία μονής εναπόθεσης είτε σε λειτουργία συν-εναπόθεσης. Η αρθρωτή δομή επιτρέπει εύκολη εγκατάσταση, μεταφορά και συντήρηση. Το περίβλημα είναι κατασκευασμένο από ψυχρής έλασης χάλυβα με διαμόρφωση φύλλου μετάλλου και βαφή ψεκασμού, εσωτερικό πλαίσιο από αλουμίνιο και ημιδιάφανο γκρι κάλυμμα από ακρυλικό. Η οθόνη ελέγχου ακολουθεί εργονομικές αρχές.

Η Αναγνώριση

Σχετικά με το Χάλκινο Βραβείο A' Design Award

Το σχέδιο High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού κέρδισε το Χάλκινο Βραβείο A' Design Award, μια ιδιαίτερα διακεκριμένη αναγνώριση που απονέμεται σε εξαιρετικά σχέδια που διακρίνονται για τη δημιουργικότητα, την εφευρετικότητα και την οξυδέρκεια. Οι νικητές του Χάλκινου Βραβείου είναι άρτια επιδέξια και εντυπωσιακά δημιουργικά τεχνουργήματα που επιβεβαιώνουν την τεράστια εμπειρία, τη φαντασία και την εφευρετικότητα των σχεδιαστών τους. Το σχέδιο High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού αναμένεται να είναι ένα πολύ εκτιμημένο, θαυμαστό και αγαπημένο αντικείμενο, αξιοσημείωτα επαγγελματικό και καινοτόμο. Αυτό το σχέδιο που βραβεύτηκε με το Χάλκινο Βραβείο A' Design Award ενσωματώνει τις βέλτιστες πρακτικές στην τέχνη, την επιστήμη, τον σχεδιασμό και την τεχνολογία και είναι εξαιρετικό για την προσοχή του στη λεπτομέρεια. Το σχέδιο High Vacuum Sputtering System Σύστημα Ψεκασμού Κενού ικανοποιεί υπέροχα τις ανάγκες, αγγίζει τις επιθυμίες, γοητεύει τα συναισθήματα και προσελκύει την περιέργεια.

Πίσω από τον Σχεδιασμό

Υλικό Τύπου

Συντελεστές, μέλη ομάδας και τεχνικές λεπτομέρειες που παρέχονται από τον σχεδιαστή.

Μοναδικά Χαρακτηριστικά: This Ultra High Vacuum Sputtering System subverts the traditional model. On the basis of the functional machine, it integrates many factors for industrial design according to the requirements of the users and the environments. This system mainly adopts modular combination mode, which is convenient for combined installation, transportation and maintenance.The overall shape design is neat and beautiful, the surface treatment is fine, the fuselage is matched with the translucent acrylic mask in gray tone, giving people a simple, modern and beautiful feeling. Ergonomics and interactions are reflected in the design of the control screen.
Διαστάσεις & Συσκευασία: Width 2800mm x Depth 1200mm x Height 1500mm
Ετικέτες: Vacuum magnetron sputtering, UHV SPUTTER，Large equipment
Τεχνολογία Παραγωγής: The main material of the shell is high quality cold plate, which uses sheet metal forming process and environmental protection spray technology, internal skeleton for aluminum, mask for acrylic material. The fuselage design adopts screen printing process.
Σχεδιαστική Πρόκληση: The most difficult part of this design exercise is the matching relationship between the whole system, the operating mode, ergonomic design, and the interaction design in the control system.
Έρευνα: On the market，this kind of products are mainly functional machines, lack of ergonomic design. The surface treatment and texture of material are rough, the modelling lack modern design sense. The Ultra High Voltage Sputter System is a school-enterprise cooperation project completed by designers and engineers jointly. This is an improved product design based on the university's scientific research background and technical conditions of the update and improvement.
Έμπνευση: The Ultra High Vacuum Sputtering System is used in world-famous research laboratories of superconducting and quantum devices. The market is dominated by functional machines with bare devices and circuits, which don’t match the modern and intelligent test environment. Therefore, the integrated design of the system should be carried out to ensure the overall beautiful appearance design, in line with the ergonomic control design and the innovative design of human-computer interaction.
Διάρκεια Έργου: The project began in January 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China, and ended in November 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China.
Ροή Λειτουργίας: Ultra High Vacuum Sputtering System can deposit metal and dielectric thin films on substrates up to 300mm. Magnetron sputtering sources using RF, DC, or pulsed DC power sources can operate in single mode or co-deposition mode to produce films that meet a wide range of requirements.
Μέλη Ομάδας: Yang Yang
Lei Wang
Menghua Wang
Chi Rui
Yu Jiang
Shuchang Cui
Zhe Li
Πιστώσεις Εικόνων: Image #1: Photographer Yang Yang, Variations, 2020.
Image #2: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #3: Photographer Menghua Wang, Variations, 2020.
Image #4: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #5: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.