Culture to Technology Identity پىلاكات by Lei Wang

Culture to Technology Identity پىلاكات by Lei Wang is a highly esteemed winner of the very prestigious 2025 A' Design Award پلاتىنا مۇكاپاتى in گرافىكا، رەسىم ۋە كۆرۈنۈش ئالاقە لايىھەلەش Competition Category.

پلاتىناگرافىكا· 2025

Culture to Technology Identity پىلاكات

by Lei Wang

Client: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.

A' Design Award پلاتىنا مۇكاپاتى Winner in گرافىكا Category

1,494,581

Verified Award Winner

Verify Award Status for #172335

View at A' Design Award Press Release Award Badge

Colors

The Design

About Culture to Technology Identity پىلاكات

«مەدەنىيەتتىن تېخنولوگىيە كىملىكىگە» ئاپتوبۇس بېكىتىدىكى نۇرلۇق كۆزنەكلەردە كۆرسىتىش ئۈچۈن لايىھەلەنگەن پىلاكات. ئۈستى قىسمىدا، «ئەنخۇي» دېگەن خەنزۇچە خەت خۇيجۇ بىناكارلىقىنىڭ كلاسسىك سىزىقلىرى بىلەن قورشالغان بولۇپ، بۇ رايوننىڭ تارىخى ۋە مەدەنىيىتىنى ئەسلىتىدۇ. خەت ئاستا-ئاستا ئېلېكتر يوللۇق تاختا شەكلىگە ئۆزگىرىپ، «خېفېي يۇقىرى تېخنولوگىيە» دېگەن تۆت خەنزۇچە خەت بىلەن ئاخىرلىشىدۇ. پىلاكاتنىڭ چوڭلۇقى 60 گە 90 سانتىمېتىر. تەدرىجىي ئۆزگىرىدىغان كۆك رەڭلەر مەخسۇس رەڭ قاتلاپ بېسىش ئۇسۇلىدا بېسىلغان، ئېلېكتر يول سىزىقلىرى بولسا قاپارتما ئۈنۈم ھاسىل قىلىش ئۈچۈن يەرلىك UV لاك بىلەن قاپلانغان.

The Recognition

About the A' Design Award پلاتىنا مۇكاپاتى

Culture to Technology Identity پىلاكات A' Design Award پلاتىنا مۇكاپاتىنىڭ غالىبى، بۇ ھەقىقىي ئىستىسنالىق، نەپىس ۋە ھەيۋەتلىك لايىھىلەرگە بېرىلىدىغان ئىنتايىن ئابرويلۇق ئېتىراپتۇر. پلاتىنا غالىبلىرى ياراتقۇچىلىقنىڭ مۆجىزىلىرى، ئەقلىي ئىجادىيەتنىڭ چەكلىرىگە ئىسپات بولۇپ، لايىھىلىگۈچىلىرىنىڭ تەڭدىشى يوق كەسپىي ماھارىتى ۋە ئىستېداتىنى نامايان قىلىدۇ. بۇ لايىھىلەرنىڭ بىر دەۋرنىڭ ئېستېتىكىسىنى بەلگىلەيدىغان، جەمئىيەت پاراۋانلىقىغا ھەسسە قوشىدىغان ھەمدە سەنئەت، ئىلىم-پەن، لايىھە ۋە تېخنىكىنىڭ چېگرالىرىنى ئىلگىرى سۈرىدىغان ئەڭ داڭلىق ئەسەرلەر بولۇشى ئۈمىد قىلىنىدۇ. Culture to Technology Identity پىلاكات يۇقىرى دەرىجىلىك مۇكەممەللىكنى نامايان قىلىدۇ ۋە ئۆزىنىڭ پايدىلىق، قىممەتلىك ئالاھىدىلىكلىرى بىلەن دۇنيانى شەكسىز تېخىمۇ ياخشى ئورۇنغا ئايلاندۇرىدۇ. Culture to Technology Identity پىلاكات ئارزۇ-ئىستەكلەرنى قوزغايدىغان، ئىلھاملاندۇرىدىغان، ھاياجانلاندۇرىدىغان، خۇشال قىلىدىغان ۋە زور خۇشاللىق پەيدا قىلىدىغان A' Design Award پلاتىنا مۇكاپاتىنى يەڭگەن ئەسەر.

Behind the Design

Press Kit

Credits, team members and technical details provided by the designer.

Unique Properties: In the upper section, the Chinese character for Anhui is framed by the classic contours of Huizhou architecture, underlying the profound historical and cultural legacy. This character gradually transforms into a circuit, symbolizing technological advancement, culminating in the four Chinese characters for Hefei High Tech. This progression illustrates the shift from cultural imagery to technological representation, forming the visual centerpiece of the entire composition.
Dimensions & Packaging: 60X90cm
Tags: Anhui, Hui Style Architecture, Traditional Culture, Hefei High Tech Zone, Technology, Innovation, History, Future, Convergence
Production Technology: The design features high precision drawings at 300dpi. For the bus stop light box, the dimensions are set at 60×90cm, reserving a 3mm bleed and crease for die cutting. The gradient blues utilize spot color overprinting, while circuit lines are enhanced with UV local varnish to create a 3D effect. The production process rigorously ensures color calibration and alignment accuracy to fulfill the requirements for long-term outdoor display.
Design Challenge: Creating a seamless transition between the traditional profiles of Huizhou architecture and modern circuit designs poses a significant challenge for designers. This requires a command in proportion, structural arrangement, and color application. The background features a gradient of blue tones, capturing the essence of Jiangnan, where Huizhou culture thrives, and symbolizing a forward looking perspective filled with endless possibilities in science and technology.
Research: In recent years, Anhui has leveraged scientific and technological innovation to drive new quality productivity, achieving remarkable results in sectors such as NEVs, intelligent manufacturing, quantum information, and green energy. This focus on innovation has established science and technology as a new hallmark for Anhui. The Hefei High Tech Zone stands at the forefront of this wave of technological advancement in the region.
Inspiration: The advancement of the Hefei High Tech Zone, which facilitates the transition of. Anhui Province from a culturally rich region to a hub of science and innovation, serves as the central theme of this poster. As the capital of Anhui Province, Hefei boasts a rich heritage of Huizhou culture, where traditional Huizhou architecture seamlessly merges with modern technology and innovation, as if it were starting a dialogue that bridges the past and the future, and painting a vibrant scene at their intersection.
Project Duration: The project commenced in Hefei in February 2025 and wrapped up in March 2025, with its application in various scenarios commencing the same month.
Operation Flow: The layout design adheres to the principles of simplicity, emphasizing unity and purity. Coupled with the gradient blues that permeate the entire image, it fosters an aesthetic appeal with an oriental influence. The dynamic flow of the circuit lines enhances the visual guidance, encouraging viewers to follow the designated path and delivering an engaging reading experience.
Patents: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.
Team Members: Creative Director: Ji Chao
Design Director: Xu Ning
Designers: Jin Lei, Wang Lei
Copywriting planning: Zhou Jiaxiang
Image Credits: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.